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EUV露光装置の精度は、日本が作っている

半導体の最先端を語るとき、 必ず名前が挙がるのが EUV露光装置。 そして、そのメーカーとして知られているのが ASML です。 しかし、EUV露光装置の本当の価値は 「装置があるかどうか」ではありません。 どこまで正確に制御できるか── つまり「精度」にあります。 この動画では、 EUV露光装置がなぜ異常な精度を要求されるのか、 そしてその精度を どの国の、どんな技術が支えているのかを解説します。 EUVは、 ・空気を通らず ・レンズが使えず ・すべて反射で制御される 極端な光学条件の世界。 その中核を担うのが ZEISS の超精密ミラーですが、 鏡だけではEUVは成立しません。 原子レベルの研磨、 巨大装置をナノ単位で制御する精密機構、 真空・汚染を徹底的に管理する材料技術。 こうした表に出にくい技術が、 EUV露光装置の精度を静かに支えています。 「日本は半導体で負けた」と言われることがありますが、 それは戦っている場所が違うだけかもしれません。 派手ではない。 しかし、欠ければ止まる。 この動画では、そんな日本の立ち位置を整理します。 あなたが「日本が強いと思う半導体分野」はどこですか？ 材料、装置、加工技術など、ぜひコメントで意見を聞かせてください。 #半導体 #EUV #ASML #露光装置 #精密加工 #日本の技術 #製造業 #工業技術