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「JST研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)③ 新技術説明会」(2022年3月11日開催)にて発表。 https://shingi.jst.go.jp/list/list_20... 【新技術の概要】 ミリ秒で1000℃以上の急速加熱を実現する超ハイパワー大気圧プラズマジェット発生技術をコアに、磁場走査による線状プラズマや100μm以下のマイクロプラズマ等の発生技術を開発した。処理中の試料温度を非接触計測する光学系および解析システムも開発し、温度測定の様々なニーズに対応可能な技術を開発した。 【従来技術・競合技術との比較】 DCアーク放電による簡単な構造で5kW以上のパワーを発生可能であり、レーザーをはじめとする従来の熱処理を低コストで代替可能である。OICTは試料表面のみならず内部温度分布を10μmの空間分解能・100μsの時間分解能で三次元可視化できる技術であり、従来に無い新たな温度場イメージング技術である。 【新技術の特徴】 ・大気圧プラズマによる超ハイパワー急速熱処理を大幅な低コストで実現 ・OICTによる非接触温度計測と処理条件へのフィードバック ・OICTによる試料内部温度の三次元イメージング 【想定される用途】 ・プラズマによる試料表面の局所熱処理、改質、加工 ・OICTによるプラズマ処理中試料温度の非接触測定、各種熱処理工程管理、トレーサビリティ確保、機械学習用データ取得 ・OICTによる半導体デバイスの不良検出、発熱劣化過程の解明、信頼性テスト、熱設計・プロセスへのフィードバックなど