Компания Huawei протестировала 3-нм чип с использованием собственной технологии EUV-литографии — ... скачать в хорошем качестве

Компания Huawei протестировала 3-нм чип с использованием собственной технологии EUV-литографии — ...

В 2025 году произошло то, что, как говорили всему миру, было невозможно. На секретном объекте в Дунгуане, Китай, компания Huawei успешно протестировала собственную установку для EUV-литографии — самую сложную из когда-либо созданных производственных технологий — и использовала её для производства 3-нанометровых чипов. В течение десятилетий только ASML могла производить EUV-машины. Когда США лишили Китай доступа к этой технологии, эксперты утверждали, что Китай отстаёт на 10-15 лет и навсегда лишён возможности выпуска передовых чипов. Это предположение рухнуло. Вместо того чтобы копировать ASML, Huawei разработала совершенно новый подход к EUV-литографии, называемый лазерно-индуцированным разрядом плазмы (LDP) — более компактный, простой и потенциально гораздо более дешёвый. В сочетании с SMIC и общенациональной программой развития полупроводниковой промышленности Китай, возможно, нашёл способ обойти санкции. В этом видео подробно разбираются: Как Huawei создала собственную систему EUV Почему 3-нм чипы меняют всё Чем китайский подход к EUV отличается от подхода ASML Настоящие вызовы, которые ещё предстоят Почему Nvidia, ASML и США сейчас внимательно следят за ситуацией ⚠️ Если Huawei добьётся успеха в больших масштабах, глобальная монополия на рынке полупроводников рухнет — и мир технологий уже никогда не будет прежним. #Huawei #3nm #EUV #ChipWar #Semiconductors #ASML #ChinaTech #USChinaTech #TechSanctions #FutureOfTechnology