У нас вы можете посмотреть бесплатно 神級突破!大日本印刷DNP造出可秒殺EUV曝光機新神器,產1.4nm晶片不在話下,電路線寬10nm的NIL奈米壓印光罩。日企先進制程製造商Rapidus擬建設1.4奈米晶圓廠,加速追趕台積電。 или скачать в максимальном доступном качестве, видео которое было загружено на ютуб. Для загрузки выберите вариант из формы ниже:
Если кнопки скачивания не
загрузились
НАЖМИТЕ ЗДЕСЬ или обновите страницу
Если возникают проблемы со скачиванием видео, пожалуйста напишите в поддержку по адресу внизу
страницы.
Спасибо за использование сервиса ClipSaver.ru
Rapidus 計劃全面啓動 1.4nm產品的研發工作,同時繼續與為其2nm晶片提供技術的IBM公司保持合作。2022 年 12 月,IBM和 Rapidus 達成合作,共同開發半導體技術,旨在為 Rapidus 在日本的工廠提供 IBM 的突破性 2nm技術的實現方案。Rapidus 一直從日本政府獲得補貼。此前,Rapidus 宣佈已獲選為日本政府的官方業務營運方。大日本印刷株式會社DNP日前宣佈,成功開發出電路線寬為10nm的NIL奈米壓印曝光光罩,可用於相當於1.4nm級邏輯半導體的電路圖案化。 #奈米壓印 #大日本印刷 #光罩 #Rapidus #1_4nm #晶片 #極紫外曝光 #台積電