新凯来无疑是中国半导体设备制造最神秘的厂商， 在3月25号开始首次亮相上海国际半导体展览会，本期视频根据展会材料介绍新凯来最新的进展，新凯来的困境，以及未来。 скачать в хорошем качестве

新凯来无疑是中国半导体设备制造最神秘的厂商， 在3月25号开始首次亮相上海国际半导体展览会，本期视频根据展会材料介绍新凯来最新的进展，新凯来的困境，以及未来。

新凯来计划形成“半导体材料-半导体设备制造-先进制程”闭环，其布局相当于涵盖半导体检测设备领域爱德万测试加上设备制造的荷兰的ASML,美国应用材料，日本东京威力科创，美国KLA加上先进制程的台积电，可以说是整个星球上前所未有的半导体公司，最疯狂的布局。所以在展会的摊位前人山人海，每个人都想看看新凯来的真容。目前董事长是戴军，同时担任国家大基金二期监事、中芯国际董事。业内人都知道，新凯来深度绑定中芯国际、华为等产业链巨头。 该公司网站目前只列出四种低技术含量的芯片制造工具，而其手册则包括多个系列的数十种产品，五大核心半导体设备，包括高精度薄膜沉积设备、先进离子注入系统、新一代涂胶显影设备、化学机械抛光系统以及全自动晶圆检测设备，全面覆盖半导体制造的关键工艺环节。但是没有万众瞩目的DUV以及EUV光刻机。这些产品都以中国著名山脉命名。 新凯来董事长在展会现场表示："力争在未来三年内实现更多关键设备的国产化替代。"这个暗合任正非关于半导体备胎2点零的讲话目标，2028年实现国产替代80%。 新凯来在展览会，首次集中展示其“名山”系列设备。 氧化/扩散产品类： EPI“峨眉山”：用于外延层沉积。 薄膜沉积设备类： CVD“长白山”：化学气相沉积设备。 PVD“普陀山”：物理气相沉积设备。 ALD“阿里山”：原子层沉积设备。原子层沉积是中外都刚开始研发的下一代技术，新凯来目前处于国内领先地位。 蚀刻机类： ETCH“武夷山”：蚀刻设备，包括用于逻辑芯片的电感耦合ICP和用于内存等领域的高深宽比电容耦合干法刻蚀CCP。资料并没有介绍能达到逻辑芯片多少纳米或者多少层的内存刻蚀，技术人才主要来自中微公司。 涂胶显影设备类，在分辨率和产能方面达到业界先进标准，可满足14纳米及以上制程工艺需求，国内芯源微此前是唯一设备商，也达到14nm水平。 退火设备类： RTP"三清山“，这类设备国产化程度最高。北方华创，屹唐股份等都是领头羊。 全自动晶圆检测设备： 包括光学量检测产品和国内空白的PX（物理和X射线）及功率检测产品，光学量检测2025年进入量产状态,PX检测在客户端已稳定运行近2年，关键性能指标均达成先进工艺客户的应用需求。 新凯来设备水平评价。 活动现场一名新凯来工作人员表示，其中一些设备（包括不在产品清单上的刻蚀设备）能够支持5纳米芯片的生产。对于光刻机的提问，回答说能支持5nm。我猜测新凯来的EUV应该叫喜马拉雅山，DUV系列叫喀喇昆仑山，世界和中国第一，第二高的山脉。 中国其他半导体设备厂商已覆盖多个细分领域，其中在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高，在50%左右，在CMP、热处理、薄膜沉积设备上在30%左右，而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备 国产化程度比较低，基本在5%到10%左右。 对于新凯来而言，由于他的人才来自国内各大半导体设备商加上从国外厂商招聘的退休人员，工程师，对于国内已经突破的类别，比如物理化学薄膜沉积，刻蚀设备，其开发的设备技术水平，稳定度肯定不如中微，北方华创数十年的经验积累，很多都是低水平重复开发，对于此前国内落后的领域，比如原子层薄膜沉积，量测，光刻，他自然就很快进入国内领先水平。 新凯来的宣传材料上的大部分产品没有提及经过客户认证，对于一个成立三四年的公司，能够推出产品已经不错。一个设备至少需要2到3年客户验证，事实上，新凯来的大部分设备只是在65nm以上制程，而国内进展是2025年将完成14nm验证，7nm进入生产线验证，然后2028年基本完成7nm甚至5nm的既定目标，假设新凯来按照目前进度，要达到7nm至少都是2030年后，完全不能跟得上中国政府制定的目标。 新凯来的困境。 中微公司CEO曾经说过，研发一款新型设备后，面临最大的困难是如何说服厂家不用成熟国外产品，毕竟一条生产线动辄十亿美元以上，一台机器的试验至少2到3年，没有厂家愿意给你试验。美国制裁后，国产化率是硬性要求，中国也买不到先进设备，半导体生产厂家主动找中微公司等去满足国产化率。但是新凯来面临比以前更大的困难，如何说服厂家放弃中微公司等国内成熟产品，对用户来说，采用中微公司就可以满足要求。所以新凯来不得不采用竞争的惯例，杀价。中微公司CEO多次抱怨新凯来低价竞争。 新凯来的未来。 初期和国内厂商合作方式非常好，优势互补又快速，一年后为了规避合作方制裁，不得不独立开发。所以开发的产品大部分是低水平重复造轮子。北方华创等担负着国产化任务，新凯来没有能力承担，新凯来只是背锅美国制裁的，为北方华创，中微公司争取时间，新凯来作为华为系刚开始并不服气，严重低估了半导体设备开发的难度，必须重回联合开发之路或者放弃重复造轮子的行为，对于国内厂商已经开始突破的领域，想要规避美国制裁，可以有很多方式，比如新凯来可以OEM组装，外形改进，自行定义界面，挂自己的牌子，这样可以避免重复投资。对于国内落后的领域，比如量测，光刻机，新凯来可以布局开发，中国唯一需要新凯来的领域是浸润式DUV，EUV的开发，也需要联合上海微电子以及上海微电子的供应商，同一台机器两种型号，上海微电子型可以出口东南亚，欧洲等国外，新凯来型供应华为以及各国内被制裁的企业或者出口俄罗斯。