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半導体の勝敗は「2nmを作れるかどうか」で決まる。 もしそう考えているなら、業界の半分しか見えていないかもしれません。 現在、最先端プロセスを支配するEUV露光装置は、 1台500億円を超える導入コストと、膨大な電力消費という “経済的絶壁”に直面しています。 本動画では、 ・EUVが抱える構造的な限界 ・2026年にキヤノンが実用化した「IAP技術」の本質 ・DNP、富士フイルム、東京エレクトロン、SCREENが支える 日本サプライチェーンの地政学的強さ ・2nmではなく「5nm〜14nmのボリュームゾーン」を狙う合理性 を、事実と技術背景をもとに解説します。 これは単なる装置競争ではありません。 高価で巨大な光に依存し続ける世界と、 低コスト・低電力で量産の急所を突く日本。 2027年、宇都宮から始まる変化は、 半導体産業の価値基準そのものを変える可能性があります。 #半導体 #キヤノン #ナノインプリント #IAP技術 #EUV #ASML #日本半導体 #半導体装置 #2nm #5nm #地政学 #製造業 #Canon #DNP #富士フイルム #東京エレクトロン #SCREEN